超聲波清洗設(shè)備一般可分為通用和專用兩種機(jī)型。

1、通用超聲波清洗機(jī)
超聲波清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)一般有超聲電源和清洗器合為一體或分開布局兩種形式，一般小功率（200W以下）清洗機(jī)用一體式結(jié)構(gòu)，而大功率清洗機(jī)采用分體式結(jié)構(gòu)。
超聲波清洗機(jī)分體式結(jié)構(gòu)由三個(gè)主要部分組成（1）清洗缸；（2）超聲波發(fā)生器；（3）超聲波換能器。
清洗缸：清洗缸是用來裝載清洗液及被清洗工件的不銹鋼容器，大多數(shù)工件可先裝在網(wǎng)狀框架內(nèi)，再一起放人缸內(nèi)清洗。
超聲波發(fā)生器：超聲清洗機(jī)用的超聲波發(fā)生器，從使用的元器件種類可以分電子管式的，可控硅式的和晶體管式的。近幾年來已經(jīng)發(fā)展到用大功率“功率模塊”的方式。其輸出功率從幾十瓦直到幾千瓦，工作頻率從15kHz-40kHz。
超聲波清洗機(jī)用的超聲波發(fā)生器，有以下特點(diǎn)：
（1）隨著清洗液深度不同，換能器共振頻率和阻抗變化很大。但是實(shí)踐表明，槽內(nèi)放進(jìn)適量清洗物后，基本上就可以穩(wěn)定在某一定數(shù)值上。
（2）一般來說，由于清洗負(fù)載變動(dòng)較小，可以不要求復(fù)雜的頻率自動(dòng)跟蹤電路。
（3）實(shí)用超聲波發(fā)生器，大多數(shù)采用大功率自激式反饋振蕩器。
超聲波換能器：超聲波清洗機(jī)用的換能器。
主要有以下幾種：
①磁致伸縮換能器國內(nèi)用的磁致伸縮換能器大多數(shù)是用鎳片疊成的窗口型換能器，將它銀焊在清洗缸底部，然后用導(dǎo)線在窗口上繞一定卷數(shù)而成。此種換能器能承受較大功率，且可靠性好，使用壽命長。缺點(diǎn)為效率較壓電換能器低，原材料鎳片價(jià)格貴。
②壓電式換能器目前國內(nèi)外大多數(shù)超聲波清洗機(jī)用的是壓電式換能器。這種換能器一般有兩片壓電陶瓷晶片組成。一臺(tái)清洗機(jī)用多個(gè)換能器，經(jīng)粘接劑粘接在清洗缸底部且經(jīng)并聯(lián)聯(lián)接組成一臺(tái)清洗機(jī)的換能器。換能器基元之間距（對于頻率20kH4一般在5-10mm為佳，太大了容易產(chǎn)生彎曲振動(dòng)，且振動(dòng)板受到腐蝕，同時(shí)輻射面相對減少。通用超聲清洗機(jī)清洗零件適用性強(qiáng)，已廣泛應(yīng)用于電子、鐘表、光學(xué)、機(jī)械、汽車、航空、原子能工業(yè)、醫(yī)療器械等許多行業(yè)。

2、專用超聲波清洗機(jī)
一般安裝在某些特定物件清洗的生產(chǎn)流水線上。
典型的軟磁器件超聲波清洗設(shè)備介紹：被清洗物件從進(jìn)料口可傳動(dòng)的不銹鋼專用網(wǎng)帶送人超聲波清洗槽清洗，再經(jīng)噴淋、烘干等工序后出料，實(shí)現(xiàn)被清洗物件可直接包裝入庫。
各工序簡要說明如下：
①進(jìn)料：物件進(jìn)料可采用半自動(dòng)進(jìn)料
②壓電式換能器目前國內(nèi)外大多數(shù)超聲波清洗機(jī)用的是壓電式換能器，勘L形結(jié)構(gòu)。這種換能器一般有兩片壓電陶瓷晶片組成。一臺(tái)清洗機(jī)用多個(gè)換能器，經(jīng)粘接劑粘接在清洗缸底部且經(jīng)并聯(lián)聯(lián)接組成一臺(tái)清洗機(jī)的換能器。換能器基元之間距（對于頻率20kH4一般在5-10mm為佳，太大了容易產(chǎn)生彎曲振動(dòng)，且振動(dòng)板受到腐蝕，同時(shí)輻射面相對減少。
通用超聲清洗機(jī)清洗零件適用性強(qiáng)，已廣泛應(yīng)用于電子、鐘表、光學(xué)、機(jī)械、汽車、航空、原子能工業(yè)、醫(yī)療器械等許多行業(yè)。專用超聲波清洗機(jī)一般安裝在某些特定物件清洗的生產(chǎn)流水線上。典型的軟磁器件超聲波清洗設(shè)備，被清洗物件從進(jìn)料口可傳動(dòng)的不銹鋼專用網(wǎng)帶送人超聲波清洗槽清洗，再經(jīng)噴淋、烘干等工序后出料，實(shí)現(xiàn)被清洗物件可直接包裝入庫。
各工序簡要說明如下：
①進(jìn)料：物件進(jìn)料可采用半自動(dòng)進(jìn)料或出料：物件出料可采用自動(dòng)收料或手工收料方式，格被清洗物件裝入包裝盒內(nèi)。通過上述工序就完成了物件實(shí)現(xiàn)利用超聲波清洗的全過程。

目前，還有一種超聲汽相清洗機(jī)，它是選用有機(jī)溶劑作清洗液，具有極強(qiáng)的溶解污垢的能力，用于清洗半導(dǎo)體晶片等凈治度要求特別高的物件。